sg
O‘zbekcha

ФОРМИРОВАНИЕ НАНОФАЗНЫХ ПЛЕНОК CU15SI4/SI НА ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ И ИХ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА

Авторы

Ключевые слова:

mis silitsid, nanoplyonka, nanofaza, ion-plazma.

Аннотация

В данной работе представлена ​​научная информация о формировании тонких пленок Cu15Si4 на поверхности монокристаллического кремния, морфологии их поверхности и механизме формирования пленок. Объяснен механизм формирования нанопленок металлов и силицидов при использовании различных режимов магнетронного распыления. Толщину пленок измеряли с помощью СЭМ. Элементный состав определялся методом энергодисперсионной спектроскопии. Морфологию поверхности исследовали с помощью лазерного конфокального микроскопа. Электрофизические свойства определялись с использованием SBA-458. Оптические свойства анализировались с помощью ИК-спектрофотометра. Образование пленки силицида меди (Cu) зависит от размера кристаллов меди и температуры подложки, и при температуре 467oC под слоем меди толщиной 130 нм образовалась пленка Cu15Si4 толщиной 75 нм. Это исследование продемонстрировало потенциал использования медного кремния для улучшения производительности транзисторов на основе металла-оксида-полупроводника и высокоскоростных интегральных схем (ИС).

Биографии авторов

  • Muradulla Normuradov, Qarshi davlat universiteti

    Qarshi davlat universiteti, Fizika-matematika fanlari doktori, Nazariy va eksperimental fizika kafedrasi professori

  • Quvondiq Dovranov, Qarshi davlat universiteti

    Qarshi davlat universiteti, Fizika-matematika fanlari nomzodi, Nazariy va eksperimental fizika kafedrasi o’qituvchisi

  • Asilbek Qodirov, Qarshi davlat universiteti

    Qarshi davlat universiteti, Nazariy va eksperimental fizika kafedrasi doktoranti,

  • Normo’minova Dilnavoz, Qarshi davlat universiteti

    Qarshi davlat universiteti, Nazariy va eksperimental fizika kafedrasi magistranti

Библиографические ссылки

Aarju Mathew Koshy, A. Sudha, Satyesh Kumar Yadav, Parasuraman Swaminathan. Effect of substrate temperature on the optical properties of DC magnetron sputtered copper oxide thin films. Physica B: Condensed Matter 650 (2023) 414452. https://doi.org/10.1016/j.physb.2022.414452

Z.H. Zhang, S. Hasegawa, S. Ino. Epitaxial growth of Cu onto Si(111) surfaces at low temperature. Surface Science, 415 (1998) 363–375

A. Hojabri, F. Hajakbari, M. A. Moghri Moazzen, S. Kadkhodaei. Effect of Thickness on Properties of Copper Thin Films Growth on Glass by DC Planar Magnetron Sputtering. JNS 2 (2012) 107-112

Jin-Hyo Booa, Min Jae Jung, Heon Kyu Park, Kyung Hoon Nam, Jeon G. Han. High-rate deposition of copper thin films using newly designed high-power magnetron sputtering source. Surface Coatings Technology 188–189 (2004) 721 – 727. doi:10.1016/j.surfcoat.2004.07.005

Solovyev, A. A., Semenov, V. A., Oskirko, V. O., Oskomov, K. V., Zakharov, A. N., Rabotkin, S. V. (2017). Properties of ultra-thin Cu films grown by high power pulsed magnetron sputtering. Thin Solid Films, 631, 72-79.

Rtimi, S., Baghriche, O., Pulgarin, C., Ehiasarian, A., Bandorf, R., & Kiwi, J. (2014). Comparison of HIPIMS sputtered Ag-and Cu-surfaces leading to accelerated bacterial inactivation in the dark. Surface and Coatings Technology, 250, 14-20.

Paik, N. (2005). Characteristics of Cu films prepared using a magnetron sputter type negative ion source (MSNIS). Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 229(3-4), 436-442.

Davranov, K.T., Normuradov, M.T., Davlatov, M.A., Toshev, T.U., Kurbonov, N.A.Preparation of calcium titanate perovskite compound, optical and structural properties. East European Journal of PhysicsThis link is disabled., 2024, 2024(3), pp. 350–354.

Bekpulatov, I.R., Imanova, G.T., Jabarov, S.H., ... Tishkevich, D.I., Trukhanov, A.V. The solid-phase ion-plasma method and thermoelectric properties of thin CrSi2 films. Journal of Materials Science: Materials in ElectronicsThis link is disabled., 2024, 35(20), 1426.

Bekpulatov, I.R., Imanova, G.T., Umirzakov, B.E., ... Turapov, I.X., Norbutaev, N.E. Formation of thin CrSi2 films by the solid-phase ion-plasma method and their thermoelectric properties. Materials Research InnovationsThis link is disabled., 2024, 28(4), pp. 221–228

Dovranov, K.T., Normuradov, M.T., Davranov, K.T., Bekpulatov, I.R. Formation of Mn4Si7/Si(111), CrSi2/Si(111), and CoSi2/Si(111) thin films and evaluation of their optically direct and indirect band gaps. Ukrainian Journal of PhysicsThis link is disabled., 2024, 69(1), pp. 20–2563

Baptiste Giroire, Mohamed Ali Ahmad, Guillaume Aubert, Lionel Teulé-Gay, Dominique Michau, et al.. A comparative study of copper thin films deposited using magnetron sputtering and supercritical fluid deposition techniques. Thin Solid Films, 2017, 643, pp.53-59. ff10.1016/j.tsf.2017.09.002ff. ffhal- 01652547f

K. Mech, R. Kowalik, P. Zabinski. Cu thin films deposited by DC magnetron sputtering for contact surfaces on electronic components. Arch. Metall. Mater., 56 (2011), pp. 903-908.

B.H. Wu, J. Wu, F. Jiang, D.L. Ma, C.Z. Chen, H. Sun, Y.X. Leng, N. Huang. Plasma characteristics and properties of Cu films prepared by high power pulsed magnetron sputtering. Vacuum, 135 (2017), pp. 93-100.

S. Du, Y. LiEffect of annealing on microstructure and mechanical properties of magnetron sputtered Cu thin films. Adv. Mater. Sci. Eng., 451 (2015), p. 969580.

Shiwen Du and Yongtang Li. Effect of Annealing on Microstructure and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered Cu Thin Films. Advances in Materials Science and Engineering. Volume 2015, Article ID 969580, 8 pages. http://dx.doi.org/10.1155/2015/969580

Загрузки

Опубликован

2025-02-25

Выпуск

№ 1 (2025): FarDU ilmiy xabarlari jurnali (ANIQ FANLAR)

Раздел

Физика и техника

Лицензия

Copyright (c) 2025 Научный вестник Ферганский государственный университета

Лицензия Creative Commons

Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution-NonCommercial-NoDerivatives» («Атрибуция — Некоммерческое использование — Без производных произведений») 4.0 Всемирная.